이미지 확대보기27일(현지 시각) 자유시보·대만중앙통신 등에 따르면 대만 고등검찰서 지적재산권분서는 이날 국가보안법상 '국가 핵심 주요 기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 3명을 기소했다.
검찰은 이들에게 각각 징역 14년, 9년, 7년을 구형했다. 이에 대해 검찰은 "대만 반도체업계의 국제 경쟁력을 심각히 위협하는 사건"이라고 설명했다.
앞서 TSMC가 지난달 8일 고소장을 제출했고, 검찰은 조사를 거쳐 이달 6일 이들을 구속했다.
TSMC에서 퇴직 후 도쿄일렉트론으로 이직한 천 모씨가 TSMC에서 일하던 다른 2명으로부터 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면을 넘겨받았다는 것이 대만 검찰 설명이다. 유출된 도면은 약 1000여장 수준이다.
김정희 글로벌이코노믹 기자 jh1320@g-enews.com












